真空等離子噴涂
2022-07-12
大氣中，等離子焰流一離開噴嘴就從周圍吸入大量空氣。在100mm噴距時，吸入空氣量可占等離子體的90%以上。常壓等離子噴涂時，金屬粉末氧化嚴(yán)重。另外，有些有毒材料（如鈹及氧化鈹）無法在大氣中噴涂。為解決上述問題，提出了低壓等離子噴涂。真空等離子噴涂又稱低壓等離子噴涂，是在低于大氣壓的低真空的密閉空間里進(jìn)行的等離子噴涂（受控環(huán)境的噴涂技術(shù)）。受控環(huán)境的噴涂技術(shù)將我們對等離子噴涂的認(rèn)識向前推進(jìn)了一步。在噴涂室內(nèi)操作噴槍，使環(huán)境得到完全控制。這樣生產(chǎn)出來的涂層的特性是不可能在標(biāo)準(zhǔn)大氣環(huán)境下生產(chǎn)出來的。環(huán)
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